Národní úložiště šedé literatury Nalezeno 5 záznamů.  Hledání trvalo 0.00 vteřin. 
Nanostructured Modifcation of Material Surfaces for Controlled Cell Cultivation
Kotelnikov, Ilya ; Proks, Vladimír (vedoucí práce) ; Chytil, Petr (oponent) ; Šebestová Janoušková, Olga (oponent)
Komerčně dostupné materiály a média pro kultivaci buněk neumožnují kultivaci a růst buněk s využitím specifických interakcí buňka-povrch. Cílem této práce je vývoj povrchů pro kultivaci buněk, které napodobují podmínky v živých tkáních a vytvoření povrchů pro kultivaci specifického typu buněk. Přístup zavedený v této práci je založen na aplikaci biomimetických peptidových ligandů na inertní nosné materiály s non-fouling vlastnostmi. Vzhledem k tomu, že volba sekvence ligandu a vzdálenost mezi peptidy má vážný vliv, bylo syntetizováno a zkoumáno několik modelových peptidů s různými parametry. Adhezivní peptidy byly syntetizovány syntézou peptidů na pevné fázi. Také byly syntetizovány a testovány peptidy s kontrolními peptidovými sekvencemi bez biologické aktivity. Nedílnou částí práce je dále prostorová distribuce peptidů na povrchu. 'Click'-reakce byla použita pro úspěšnou imobilizaci peptidů na modifikovaných površích. Vzdálenost mezi molekulami peptidů na povrchu byly řízeny jejich koncentrací v reakční směsi. Referenční vzorky byly imobilizovány radioaktivně značenými peptidy pro kvantitativní odhad přítomných peptidů. Dále byly materiály s různými typy peptidů a rozsahem koncentrací využity pro kultivace buněčných kultur, kdy experimenty byly zaměřeny na zkoumání interakcí buněk s připravenými...
Deformation of thin self-standing mask at inhomogeneous irradiation.
Koláček, Karel ; Schmidt, Jiří ; Frolov, Oleksandr ; Štraus, Jaroslav ; Chalupský, Jaromír ; Choukourov, A.
Flatness of the mask is one of key features influencing the quality of image. Among factors that can affect mask flatness belongs inhomogeneous illumination. This does not apply to lithography, but to experiments that use only discrete parts of mask e.g. for nanostructuring or other type of material research. It is shown that even single EUV laser shot (laser wavelength ~46.9 nm, pulse duration ~1.5 ns, focused pulse energy ~20 .mu.J, peak fluency 48 J/cm2) not only deforms the mask, but also changes mask-substrate distance. In our case two kinds of grids (one circular with rectangular windows 7.5x7.5 μm and bars 5 micro m (period 12.5x12.5 micro m), other rectangular with rectangular windows 3.2x1.2 μm and bars 0.8 micro m (period 4x2 micro m)) were attached to PMMA substrate and exposed to one or five superimposed focused laser shots. The mask (grid) deformation was inferred from the changes of diffraction pattern engraved into PMMA.
Applications of self-assembled 2D polystyrene nanosphere arrays
Domonkos, Mária ; Ižák, Tibor ; Demo, Pavel ; Kromka, Alexander
In this study nanosphere lithography (NSL) is demonstrated to be a low-cost, parallel and material independent fabrication process for creating periodic arrays of nanostructures using self-assembled nanospheres as templates. SA is the most feasible way to fabricate 2D or 3D colloidal crystals on large areas. After the mask preparation NSL uses different steps of plasma etching and deposition processes. The resulting patterned nanostructures have a wide range of applications in many important areas such as photonics, antireflection, surface wetting, biological and chemical sensing, solar cells, etc. This study focuses on an overview of applications of 2D colloidal crystals. First, structuring of substrate surfaces and the creation of various nano-objects (nanotips, nanopillars, nanocones) is shown. Next, direct growth of patterned structures (graphene nanomesh and diamond structures) is pointed out.
Structuring of diamond films by reactive ion plasma etching
Domonkos, M. ; Ižák, Tibor ; Proška, J. ; Kromka, Alexander
In this study, two common strategies of diamond film structuring are described. Main focus is on the comparison of top-down and the bottom-up strategies. The top-down strategy is primary related to dry reactive ion etching through masking materials (or even without mask), while bottom-up strategy is based on selective area deposition of diamond film. Several methods of both strategies are demonstrated in details in the article, regarding to their properties and basic principles.
Intenzívní XUV záření jako nový nástroj pro nanostrukturování materiálů
Juha, Libor ; Rus, Bedřich ; Krása, Josef ; Krzywinski, J. ; Vacík, Jiří
Je pojednáno o vytváření neperiodických i periodických mřížkových struktur s periodou menší než 100nm na površích různých materiálů pomocí XUV záření.

Chcete být upozorněni, pokud se objeví nové záznamy odpovídající tomuto dotazu?
Přihlásit se k odběru RSS.